Логотип Тирит
Лабораторное, аналитическое и испытательное оборудование
пн-чт 09:00-18:00, пт 09:00-17:00
Каталог оборудования
Биореакторы и ферментёрыВискозиметры ротационныеГенераторы газовКалориметрыКамеры испытательныеКамеры климатическиеКамеры низкотемпературныеКолонны ректификационныеМагнитные муфтыМешалки лабораторныеПечи лабораторныеПлазменные установки очисткиПриборы краевого углаРеометры порошковРозлив и упаковкаСмесители планетарныеСтекло лабораторноеСтерилизаторы паровыеТеплообменникиТермостаты твердотельныеТестеры фармпрепаратовФлексометрыХроматографы и спектрофотометрыЦентрифуги лабораторныеШейкеры и вортексыЭксикаторы и перчаточные боксыЭкстракторыРасходники лабораторные

Установки вакуумной плазмы SDV

Производитель:
Sindin, Китай

Установка вакуумной плазмы SDV – это источник плазмы высокой плотности для обеспечения равномерной обработки поверхности во всех направлениях. Температура очистки не превышает 45°С, поэтому на продукт не оказывается термическое воздействие. Возможна двух или многоканальная регулируемая подача технологического газа.

Стандартные установки вакуумной плазмы предназначены для очистки, травления и модификации поверхности различных образцов. Плазменная обработка заключается в ионизации газа в плазме за счет воздействия на него достаточной энергией.

Установка вакуумной плазмы состоит из пяти основных компонентов: вакуумная камера, система подачи технологического газа, система возбуждения, система вакуумных насосов и система управления.

  • Вакуумные камеры изготавливаются из 3х материалов: нерж.сталь, кварц или алюминиевый сплав. В камере размещается плоский электрод: вертикально или горизонтально. Материал камеры и размещение электрода подбираются в зависимости от применения.
  • В зависимости от очищаемой поверхности может использоваться аргон, кислород, азот, водород или тетрафторид углерода.
  • Вакуумная плазма возбуждается с помощью радиочастотного источника питания (0-1000 Вт) или источника промежуточной частоты (0-2000 Вт). Частота радиочастотного источника составляет 13,56 МГц, а источника промежуточной частоты – 40 кГц. Параметры можно регулировать исходя из особенностей образца.
  • Скорость откачки воздуха из камеры – один из важных факторов, определяющих эффективность работы. Она зависит от типа вакуумного насоса, который подбирается исходя из задачи. Могут использовать вакуумные насосы следующих типов: масляный, поршневой, сухой.
  • Система управления контролирует работу всего оборудования и обеспечивает защиту всей системы.

Технические характеристики:

SDV-60SDV-100SDV-150SDV-200
Размер камеры

- длина х ширина

- высота


375х375мм

430мм


450х450мм

500мм


500х500мм

600мм


600х600мм

600мм

Материал камерыAL-сплав AL-сплавAL-сплавAL-сплав
Электрод345х344мм322х351мм372х451мм472х451мм
Размещение электродагоризонт.горизонт.горизонт.горизонт.
Число полок (макс)6 шт.8 шт.8 шт.8 шт.
Число полок (база)1 шт.1 шт.1 шт.1 шт.
Расстояние м/полками22 мм 20 мм24 мм35 мм
Расход газа0…300 см3/м0…300 см3/м0…300 см3/м0…300 см3/м
Насос вакуумный40 м3/ч60 м3/ч
Тип насосамасляныймасляныймасляныймасляный
Источник РЧП

- мощность

- частота


0 … 300 Вт

13,56 МГц


0 … 600 Вт

13,56 МГц


0 … 600 Вт

13,56 МГц


0 … 1000 Вт

13,56 МГц

ЕСЛИ Источник ПЧ

- мощность

- частота


0 … 1000Вт

40 кГц


0 … 1000Вт

40 кГц


0 … 2000Вт

40 кГц


0 … 2000Вт

40 кГц

Дисплейсенсорныйсенсорныйсенсорныйсенсорный
Размеры внешние

- длина х ширина

- высота


950х900мм

1650мм


1000x900мм

1750мм


1100х940мм

1755мм


1050х1050мм

1700мм

Вес 350 кг500 кг600 кг800 кг

Варианты применения

  • Резисторы. Эффективно удаляет частицы органический загрязнителей с поверхности и повышают надежность нанесения клея
  • Очистка металла перед нанесением покрытия. Необработанная поверхность имеет недостаточную адгезию, что приводит к плохому и неравномерному покрытию. Плазменная обработка улучшает адгезию, что в будущем позволяет избежать неравномерное нанесения покрытия и его отслаивание.
  • Экран/Пластиковая средняя рамка. Плазменная очистка перед склеиванием повышает адгезию поверхности и улучает качество соединения
  • Модуль камеры. Плазменная очистка до и после установки датчиков освещенности, баланса белого и гистограммы улучает фиксацию модуля камеры, прочность и равномерность соединения
  • Модуль для снятия отпечатков пальцев. Плазменная очистка перед нанесением покрытия улучшает адгезию поверхности и повышает прочность соединения.

Установки вакуумной плазмы от компании ТИРИТ

Компания ТИРИТ предлагает установки вакуумной плазмы для очистки поверхностей одного из ведущих китайских производителей. Наши менеджеры проконсультирую при подборе модели, а сервисные инженеры проведут запуск и инструктаж по работе и обслуживанию. Гарантийный срок составляет 12 месяцев, послегарантийное обслуживание и техническая поддержка.

Чтобы получить консультацию, позвоните нам, отправьте запрос на email или заполнив онлайн-форму на нашем сайте. Наши контактные данные и форма для заполнения доступны по ссылке.